設(shè)備介紹：
該款A(yù)LD原子層沉積設(shè)備，特別適用于科研用戶的小型臺式設(shè)備。它經(jīng)濟(jì)實(shí)用、操作簡單、質(zhì)量穩(wěn)定可靠、售后耗材費(fèi)用極低、維修便捷、容易操作。它已經(jīng)在ALD專家教授實(shí)驗(yàn)室被廣泛使用。
研發(fā)團(tuán)隊(duì)介紹：
該設(shè)備是由哈佛著名ALD團(tuán)隊(duì)Roy G. Grodon教授組的教授們研發(fā)出來的。
Roy G. Gordon院士，美國哈佛大學(xué)化學(xué)系Thomas D. Cabot教授。研究領(lǐng)域涉及應(yīng)用數(shù)學(xué)、物理、化學(xué)和材料科學(xué)。在應(yīng)用數(shù)學(xué)領(lǐng)域發(fā)展了特殊函數(shù)(Airy, Bessel, Weber, Dawson, Morse等)有效近似計(jì)算方法，并應(yīng)用于量子力學(xué)和化學(xué)動力學(xué)等領(lǐng)域。在物理化學(xué)領(lǐng)域，提出了“Gordon-Kim”勢函數(shù)，可用于精確計(jì)算分子間相互作用力。在材料科學(xué)領(lǐng)域，自80年代后，Roy Gordon院士致力于研究化學(xué)氣相沉積(CVD)和原子層沉積(ALD)的前驅(qū)物及工藝，發(fā)展了一系列可用于生長純金屬、金屬氧化物、氮化物和硫化物等的前驅(qū)物，并應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)。目前工業(yè)界應(yīng)用的Roy Gordon院士發(fā)明的技術(shù)方法包括：CVD制備氧化錫/二氧化硅多層膜結(jié)構(gòu)用于節(jié)能窗玻璃；快速ALD制備納米Al2O3/SiO2多層膜用于濾光器件；ALD制備氮化鈦納米薄膜用于計(jì)算機(jī)芯片中銅、鋁導(dǎo)線的擴(kuò)散勢壘；CVD制備ITO薄膜應(yīng)用于薄膜太陽能電池；CVD制備氮化鋁薄膜應(yīng)用于場致發(fā)光顯示器。
設(shè)備特點(diǎn)：
1.該設(shè)備尺寸小，體積小，特別適合有高真空、高敏感材料的研究，無專業(yè)的潔凈室要求，最小的型號可以直接放到手套箱里面操作。也可以根據(jù)需要和手套箱建立不同形式的連接方式；
2.設(shè)備適合科研級別研究，最小可做2英寸的襯底；
3.可以進(jìn)行粉末包裹；
4.可以在現(xiàn)場從熱型升級為等離子體型的選型；
5.可以根據(jù)需求定制多達(dá)近百個襯底的樣品臺。
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用戶案例：
哈佛大學(xué)、赫爾辛基大學(xué)（ALD起源地）、西北大學(xué)、劍橋大學(xué)(英國)、牛津大學(xué)、萊斯大學(xué)、英屬哥倫比亞大學(xué)(加拿大)、ENS-Paris(法國、高等師范學(xué)院)、國立材料科學(xué)研究所(日本，多臺)、早稻田大學(xué)(多臺)、東京大學(xué)、北京量子研究院、北京大學(xué)、、布里斯托大學(xué)（英國）、謝菲爾德大學(xué)等等
產(chǎn)品簡介
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